拉普拉斯半导体取得散热组件、磁流体密封机构及外延系统专利,降低旋转轴及磁流体密封机构温度(拉普拉斯半导体和捷佳伟创) 99xcs.com

国家知识产权局信息显示,拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司取得一项名为“散热组件、磁流体密封机构及外延系统”的专利,授权公告号CN223633514U,申请日期为2024年12月。

专利摘要显示,本实用新型属于CVD设备技术领域,公开了散热组件、磁流体密封机构及外延系统,散热组件包括冷却套以及散热管,冷却套设置有第一贯穿腔,第一贯穿腔的腔壁设置开设有第一槽,冷却套还设置有第一进液口和第一出液口,第一进液口与第一出液口通过设置于冷却套内的第一流道连通;散热管置于第一贯穿腔内,散热管的外壁设置有散热翼片,散热管能够套接于磁流体密封机构的旋转轴上,并随旋转轴旋转;磁流体密封机构及外延系统均包括上述散热组件,以降低旋转轴以及磁流体密封机构的温度。

天眼查资料显示,拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司,成立于2026年,位于广州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析,拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司参与招投标项目2次,专利信息77条,此外企业还拥有行政许可5个。

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